1、光刻机可以分为用于生产芯片、用于封装和用于LED制造 。按照光源和发展前后 ， 依次可分为紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、极紫外光源（EUV），光源的波长影光刻机的工艺 。光刻机可分为接触式光刻、直写式光刻、投影式光刻 。
【5nm光刻机的原理】2、原理：接近或接触式光刻通过无限靠近，复制掩模板上的图案；直写式光刻是将光束聚焦为一点，通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工 。投影式光刻光刻因其高效率、无损伤的优点，是集成电路主流光刻技术 。

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